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LCVD

1 . 激光化学气相沉积

...化学气相沉积(CVD)化学气相沉积的主要方法有金属有机化学气相沉积(MOCVD)，等离子体辅助化学气相沉积和激光化学气相沉积(LCVD)等，而应用最广的主要是等离子体辅助化学气相沉积.

2 . 激光化学沉积

LCT 淋巴细胞毒性试验, LCVD激光化学沉积, LCULocalControlUnit 本机控制部件

1 . 激光化学汽相淀积

LCD Liquid Crystal Display 液晶显示器LCVD Laser Chemical Vapor Deposition 激光化学汽相淀积LDI Laser Direct Imaging 激光直接成像

LCVD激光化学沉积就是用激光束的光子能量激发和促进化学反应的薄膜沉积方法。激光化学气相沉积的过程是激光分子与反应气分子或衬材表面分子相互作用的工程。 按激光作用的机制可分为激光热解沉积和激光光解沉积两种。前者利用激光能量对衬底加热，可以促进衬底表面的化学反应，从而达到化学气相沉积的目的，后者利用高能量光子可以直接促进反应气体分子的分解。